Chất lượng quả lựu phần lớn quyết định bởi lượng nước, phân bón và quản lý bảo vệ thực vật. Quản lý nước và phân bón có tác động lớn đến số lượng và chất lượng. Qua đó quyết định sản lượng của cây trồng. Hệ thống tưới nhỏ giọt cho cây lựu sẽ là một giải pháp tối ưu. Giúp tăng năng suất và chất lượng đồng thời giảm thiểu chi phí cho cây trồng.

Thách thức cho người trồng lựu

  • Lựu dễ bị sâu bệnh
  • Quản lý nước và phân bón là vô cùng quan trọng. Sự dư thừa của cả hai tài nguyên này có thể làm tăng chi phí hoạt động.
  • Nước và phân bón dư thừa có thể ảnh hưởng đến mức sục khí ở hệ thống rễ. Làm cho độ ẩm tăng cao. Kết quả là, cây trồng có thể bị nứt quả, sâu bệnh và vi khuẩn tấn công.
  • Có thể làm tăng các chi phí hoạt động và chi phí lao động. Từ các hoạt động trong quá trình sinh trưởng và phát triển của cây lựu.

Hệ thống tưới nhỏ giọt cho cây lựu

  • Năng suất cao hơn
    Tưới nhỏ giọt cho lựu liên quan đến việc tưới thường xuyên với khối lượng đủ. Dựa trên các giai đoạn tăng trưởng dẫn đến tăng năng suất cho cây trồng. Độ sâu của tưới tiêu liên quan trực tiếp với độ sâu của hệ thống rễ lựu. 80% việc hấp thụ nước và chất dinh dưỡng diễn ra ở độ sâu 50-60cm. Tưới nhỏ giọt giúp ngăn chặn sự rò rỉ của phân bón ngoài vùng rễ hấp thụ. Đảm bảo cung cấp phân bón và nước đầy đủ cho cây. Từ đó, tăng năng suất cho lựu.
  • Loại bỏ căng thẳng độ ẩm
    Tưới nhỏ giọt giúp loại bỏ căng thẳng độ ẩm trong giai đoạn ra hoa và đậu quả. Điều này đảm bảo năng suất tối ưu. Tưới nhỏ giọt là hệ thống duy nhất tưới nước cho vùng rễ cây thường xuyên. Giúp duy trì độ ẩm ở mức tốt nhất cho cây trồng.
  • Cân bằng sự tăng trưởng năng suất của thảm thực vật
    Sự cân bằng giữa tăng trưởng thực vật và năng suất là bắt buộc trong khi trồng lựu. Hệ thống tưới nhỏ giọt cho cây lựu đảm bảo cây nhận đủ lượng nước và phân bón.

Để lại thông tin theo form dưới đây. Chúng tôi sẽ liên hệ ngay sau khi nhận được thông tin

    Họ Tên*

    Địa chỉ*

    Email*

    Phone*

    Nội dung

    Leave a Reply

    Your email address will not be published. Required fields are marked *